"Avoiding Cracks in Nanoparticle Films". J. H. Prosser, T. Brugarolas, S. Lee, A. J. Nolte, D. Lee. NANOLETTERS 12, 5287 (2012). DOI: 10.1021/nl302555k
A new method utilizing subsequent depositions of thin crack-free
nanoparticle layers is demonstrated to avoid the formation of cracks
within silica nanoparticle films. Using this method, films can be
assembled with thicknesses exceeding the critical cracking values.
Explanation of this observed phenomenon is hypothesized to mainly arise
from chemical bond formation between neighboring silica nanoparticles.
Application of this method for fabricating crack-free functional
structures is demonstrated by producing crack-free Bragg reflectors that
exhibit structural color.
Se muestra un nuevo método que utiliza depósitos subsecuentes de capas delgadas de nanopartículas libres de grietas para evitar la formación de grietas en películas de nanopartículas de dióxido de silicio. Utilizando este método se han podido ensamblar películas con con espesores que exceden los valores críticos de agrietamiento. Se piensa que la explicación de este fenómeno surge principalmente de la formación de enlaces químicos entre nanopartículas vecinas de dióxido de silicio. Se demuestra la aplicación de este método para la fabricación de estructuras funcionales libres de grietas, a través de la elaboración de reflectores de Bragg, libres de grietas, que muestran color estructural.
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