"A solvent-free photochemical route for the preparation of mesoporous inorganic films". H. De Paz, A. Chemtob, C. Croutxé-Barghorn, S. Rigolet, B. Lebeau. MICROPOROUS AND MESOPOROUS MATERIALS 151, 88 (2012). DOI: 10.1016/j.micromeso.2011.10.045
An alternative to the Evaporation Induced Self Assembly (EISA) method is described as a fast and simplified
approach towards mesoporous silica films. The sol–gel process is photochemically triggered with the
aid of photoacid generator (PAG), thereby making mesostructuration independent of film deposition
conditions, solvent evaporation and complex chemistry associated with a silica sol. The developed
solvent-free synthesis uses non-ionic poly(ethylene oxide)-based surfactants and polydimethoxysiloxane,
affording after UV irradiation a film with a wormhole porous framework, and a uniform pore size
distribution. The disordered mesostructure was characterized by X-ray diffraction, N2 adsorption, 29Si
solid-state NMR and transmission electron microscopy.
approach towards mesoporous silica films. The sol–gel process is photochemically triggered with the
aid of photoacid generator (PAG), thereby making mesostructuration independent of film deposition
conditions, solvent evaporation and complex chemistry associated with a silica sol. The developed
solvent-free synthesis uses non-ionic poly(ethylene oxide)-based surfactants and polydimethoxysiloxane,
affording after UV irradiation a film with a wormhole porous framework, and a uniform pore size
distribution. The disordered mesostructure was characterized by X-ray diffraction, N2 adsorption, 29Si
solid-state NMR and transmission electron microscopy.
Se describe un método alternativo al AutoEnsamblaje Inducido por Evaporación (EISA), el método representa una manera rápida y simplificada de obtener películas mesoporosas de dióxido de silicio. El proceso sol-gel es iniciado fotoquímicamente con la ayuda de un generador fotoácido (PAG),de este modo se obtienen mesoestructuras independientemente de las condiciones de déposito de las películas, de la evaporación de solvente y de la química compleja asociada al sol de dióxido de silicio. Esta síntesis libre de solvente usa tensoactivos no iónicos basados en polietilenglicol y en polidimetoxisiloxano, y permite la obtención de una matriz porosa con poros tipo gusano y con una distribución uniforme del tamaño de poro, después de iluminar con luz ultravioleta. La mesoestructura desordenada fue caracterizada por difracción de rayos X, adsorción de N2, NMR 29Si de estado sólido y microscopia electrónica de transmisión.
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